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氟化钙单晶/Hellma CaF2单晶/Hellma氟化钙

  • 产品型号:CLASER0027#
  • 类型: 光学晶体
  • 牌号:CAF2
  • 品牌: 豪玛HELLMA
  • 价格:根据尺寸规格,公差,技术要求及数量
  • 点击询价

    产品描述

    产品描述:

    在248nm和193nm的显微成像技术中,照明和投影光学都需要高纯度的氟化钙单晶。Hellma Materials的专业技术和Raytek光学技术允许制造直径高达440mm、厚度超过100mm、最高透射率达157nm的CaF2坯料. CaF2的高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输以及其他广泛应用中准分子波长的首选材料. 合成的氟化钙晶体完成了从真空紫外到红外的光学材料的应用范围,具有从130nm到9nm的很好的透过率µm。在摄影、高清晰度电视变焦镜头以及显微镜的彩色校正光学系统中,氟化钙可以实现光学性能的优势。进一步的应用是传感器(特别是红外光谱)、光谱仪和医疗激光器. Hellma材料和Raytek光学公司提供具有不同晶体和不同表面质量的CaF2组件和坯料。CaF2是VUV/DUV/UV、VIS和IR应用的理想选择。

    产品名称:氟化钙单晶/Hellma CaF2单晶/Hellma氟化钙


    产品关键词:

    氟化钙单晶、氟化钙、Hellma CaF2,Hellma氟化钙、氟化钙红外材料、CaF2红外材料、CaF2、Hellma CaF2、Hellma CaF2、CaF2晶体、CaF2晶体、UV CaF2、CaF2 UV材料等。


    主要应用:

    1).准分子激光和光束传输系统

    2).激光和成像光学

    3).高功率激光器

    4).低色散真空窗口


    我们提供:

    德国HELLMA氟化钙单晶毛坯件大料

    德国HELLMA氟化钙单晶粗加工坯件

    德国HELLMA氟化钙单晶坯件的进一步加工服务,包括切割,成型,抛光,研磨,钻孔,取芯,倒边,倒角,3D巡边,激光雕刻与打标,单面抛光,双面抛光,环抛,离子束抛光加工,磁流变抛光加工,轻量化,沉孔,数控机加工,开槽,真空镀膜,蒸发镀膜,清洗,计量与测量,胶合,光学装配等。


    现货坯件最大尺寸:440mm(D)*60mm(H)


    最大坯件加工尺寸:2000mm(L)*2000mm(W)*600mm(H)


    材料等级:光学级


    主要优势:

    1)。广泛应用于248nm和193nm的显微成像技术中,照明和投影光学中。

    2)。高纯度的氟化钙单晶,允许制造直径高达440mm、厚度超过100mm。

    3)。高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输以及其他广泛应用中准分子波长的首选材料。

    4)。完成从真空紫外到红外的光学材料的应用范围,具有从130nm到9nm的很好的透过率。

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